WEKO3
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放射光励起シリコンガスソース分子線エピタキシーにおけるSi(100) 表面上のSiHnの検出と膜形成機構
https://ir.soken.ac.jp/records/168
https://ir.soken.ac.jp/records/168b51c086a-e7de-480f-9abc-ca4fbefe4c1a
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
---|---|---|
![]() |
Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
---|---|---|---|---|---|---|
公開日 | 2010-02-22 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | 放射光励起シリコンガスソース分子線エピタキシーにおけるSi(100) 表面上のSiHnの検出と膜形成機構 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
資源タイプ | thesis | |||||
著者名 |
吉越, 章隆
× 吉越, 章隆 |
|||||
フリガナ |
ヨシゴエ, アキタカ
× ヨシゴエ, アキタカ |
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著者 |
YOSHIGOE, Akitaka
× YOSHIGOE, Akitaka |
|||||
学位授与機関 | ||||||
学位授与機関名 | 総合研究大学院大学 | |||||
学位名 | ||||||
学位名 | 博士(理学) | |||||
学位記番号 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 総研大甲第188号 | |||||
研究科 | ||||||
値 | 数物科学研究科 | |||||
専攻 | ||||||
値 | 07 構造分子科学専攻 | |||||
学位授与年月日 | ||||||
学位授与年月日 | 1996-03-21 | |||||
学位授与年度 | ||||||
1995 | ||||||
所蔵 | ||||||
値 | 有 |