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/\u003e使った光ガイディングにより焦点付近の高強度状態を保ったま\u003cbr /\u003eま回折させずにレーザーパルスを伝播させることによってこ\u003cbr /\u003eの制限を克服することができ、3cmのキャピラリーを用いて\u003cbr /\u003e１GeVの加速が実現している。しかし、レーザー及びプラズマ\u003cbr /\u003eのパラメーターと生成される電子ビームのエネルギー広がり、\u003cbr /\u003eエミッタンス、バンチ長、電荷量等のビーム品質との関係はい\u003cbr /\u003eまだ充分に研究がなされていない。そこで、本論文はレーザー\u003cbr /\u003eとプラズマの相互作用を扱うためにPICシミュレーションを\u003cbr /\u003e用い、高品質電子ビームを実現するプラズマ加速器の開発と小\u003cbr /\u003e型のシンクロトロン放射光源に応用可能な高品質電子ビームパ\u003cbr /\u003eラメーターの生成条件に関する研究について述べる。\u003cbr /\u003e　先ず、ガスフィル型放電キャピラリーを開発し、それを用い\u003cbr /\u003eた光ガイディング実験を行い、生成されるプラズマチャネルに\u003cbr /\u003eよる光ガイディングを実証した。次に、キャピラリーによる電\u003cbr /\u003e子加速で、高品質な電子ビームを生成するために、Particle in\u003cbr /\u003eCell(PIC)シミュレーションでレーザープラズマ加速による電\u003cbr /\u003e子ビームの品質とレーザー及びプラズマパラメーターを探索\u003cbr /\u003eし、キャピラリープラズマチャネルが高品質化に有効であるこ\u003cbr /\u003eとを見出した。\u003cbr /\u003e　キャピラリーの作成では生成されるプラズマチャネルを光ガ\u003cbr /\u003eイディング実験により調査した。作成したキャピラリー内で水\u003cbr /\u003e素ガスの放電を行いガイディングに最適な時刻にレーザーパル\u003cbr /\u003eスを入射したところ、光ガイディングが観測され、非局所熱平\u003cbr /\u003e衡モデルをこの結果に当てはめて電子密度プロファイルを計算\u003cbr /\u003eし、GeV級の電子加速に使用可能であることが判明した。\u003cbr /\u003e　シミュレーションはガスジェットの場合とキャピラリーの場\u003cbr /\u003e合の2種類について行った。一様分布の場合プラズマ電子密\u003cbr /\u003e度、スポット半径、パルス幅をそれぞれ変化させ、密度分布が\u003cbr /\u003eある場合はパルス幅を変化させて生成される電子ビームのエ\u003cbr /\u003eネルギー、エネルギー広がり、電荷量、エミッタンス、バンチ\u003cbr /\u003e長の各パラメーターに対する依存性を調べた。その結果、電子\u003cbr /\u003eビームを高品質化するための条件が判明した。\u003cbr /\u003e　本研究では、ガスフィル型キャピラリーの作成を行い、生成\u003cbr /\u003eされるプラズマチャネルの特性を分析した。その結果、電子加\u003cbr /\u003e速に使用できることが判った。更にシミュレーションでは各\u003cbr /\u003eパラメーターと電子ビームパラメーターとの関係が判明した。\u003cbr /\u003e本研究で得られたビームパラメーターは軟X線自由電子レー\u003cbr /\u003eザーに応用可能であると言える。", "subitem_description_type": "Other"}]}, "item_1_description_18": {"attribute_name": "フォーマット", "attribute_value_mlt": [{"subitem_description": "application/pdf", "subitem_description_type": "Other"}]}, "item_1_description_7": {"attribute_name": "学位記番号", "attribute_value_mlt": [{"subitem_description": "総研大甲第1326号", "subitem_description_type": "Other"}]}, 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