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アイテム
レーザープラズマ加速による高品質電子ビームの発生に関する研究
https://ir.soken.ac.jp/records/1666
https://ir.soken.ac.jp/records/16668b55567b-f7d5-4c51-aa23-81e069430e97
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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公開日 | 2011-01-17 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | レーザープラズマ加速による高品質電子ビームの発生に関する研究 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
資源タイプ | thesis | |||||
著者名 |
吉玉, 仁
× 吉玉, 仁 |
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フリガナ |
ヨシタマ, ヒトシ
× ヨシタマ, ヒトシ |
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著者 |
YOSHITAMA, Hitoshi
× YOSHITAMA, Hitoshi |
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学位授与機関 | ||||||
学位授与機関名 | 総合研究大学院大学 | |||||
学位名 | ||||||
学位名 | 博士(理学) | |||||
学位記番号 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 総研大甲第1326号 | |||||
研究科 | ||||||
値 | 高エネルギー加速器科学研究科 | |||||
専攻 | ||||||
値 | 12 加速器科学専攻 | |||||
学位授与年月日 | ||||||
学位授与年月日 | 2010-03-24 | |||||
学位授与年度 | ||||||
値 | 2009 | |||||
要旨 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 近年、レーザープラズマ加速器の研究は進み、その高い加速<br />勾配と従来の高周波加速器では不可能な高品質ビームを利用<br />する小型X線自由電子レーザー等への応用が期待されている。<br />プラズマ波を励起してウェーク場を作るには高強度のレーザー<br />パルスが必要だが、レーザーの焦点から遠ざかると回折により<br />レーザーの強度が低下してしまいウェーク場を作ることがで<br />きなくなる。このことにより加速距離が制限され、エネルギー<br />利得は高々100MeV程度に留まっていたが、キャピラリーを<br />使った光ガイディングにより焦点付近の高強度状態を保ったま<br />ま回折させずにレーザーパルスを伝播させることによってこ<br />の制限を克服することができ、3cmのキャピラリーを用いて<br />1GeVの加速が実現している。しかし、レーザー及びプラズマ<br />のパラメーターと生成される電子ビームのエネルギー広がり、<br />エミッタンス、バンチ長、電荷量等のビーム品質との関係はい<br />まだ充分に研究がなされていない。そこで、本論文はレーザー<br />とプラズマの相互作用を扱うためにPICシミュレーションを<br />用い、高品質電子ビームを実現するプラズマ加速器の開発と小<br />型のシンクロトロン放射光源に応用可能な高品質電子ビームパ<br />ラメーターの生成条件に関する研究について述べる。<br /> 先ず、ガスフィル型放電キャピラリーを開発し、それを用い<br />た光ガイディング実験を行い、生成されるプラズマチャネルに<br />よる光ガイディングを実証した。次に、キャピラリーによる電<br />子加速で、高品質な電子ビームを生成するために、Particle in<br />Cell(PIC)シミュレーションでレーザープラズマ加速による電<br />子ビームの品質とレーザー及びプラズマパラメーターを探索<br />し、キャピラリープラズマチャネルが高品質化に有効であるこ<br />とを見出した。<br /> キャピラリーの作成では生成されるプラズマチャネルを光ガ<br />イディング実験により調査した。作成したキャピラリー内で水<br />素ガスの放電を行いガイディングに最適な時刻にレーザーパル<br />スを入射したところ、光ガイディングが観測され、非局所熱平<br />衡モデルをこの結果に当てはめて電子密度プロファイルを計算<br />し、GeV級の電子加速に使用可能であることが判明した。<br /> シミュレーションはガスジェットの場合とキャピラリーの場<br />合の2種類について行った。一様分布の場合プラズマ電子密<br />度、スポット半径、パルス幅をそれぞれ変化させ、密度分布が<br />ある場合はパルス幅を変化させて生成される電子ビームのエ<br />ネルギー、エネルギー広がり、電荷量、エミッタンス、バンチ<br />長の各パラメーターに対する依存性を調べた。その結果、電子<br />ビームを高品質化するための条件が判明した。<br /> 本研究では、ガスフィル型キャピラリーの作成を行い、生成<br />されるプラズマチャネルの特性を分析した。その結果、電子加<br />速に使用できることが判った。更にシミュレーションでは各<br />パラメーターと電子ビームパラメーターとの関係が判明した。<br />本研究で得られたビームパラメーターは軟X線自由電子レー<br />ザーに応用可能であると言える。 | |||||
所蔵 | ||||||
値 | 有 | |||||
フォーマット | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | application/pdf |